一村 信吾 (イチムラ シンゴ)

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所属

附属機関・学校 リサーチイノベーションセンター

職名

教授(任期付)

学位 【 表示 / 非表示

  • 大阪大学   工学博士

経歴 【 表示 / 非表示

  • 2018年04月
    -
    継続中

    早稲田大学   研究戦略センター   教授

  • 2014年07月
    -
    2018年03月

    名古屋大学   イノベーション戦略室   室長・教授

  • 2012年04月
    -
    2014年06月

    独立行政法人 産業技術総合研究所 副理事長

  • 2007年02月
    -
    2012年03月

    独立行政法人 産業技術総合研究所 理事

  • 2004年04月
    -
    2007年02月

    独立行政法人 産業技術総合研究所 計測フロンティア研究部門長

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研究分野 【 表示 / 非表示

  • 薄膜、表面界面物性

論文 【 表示 / 非表示

  • ナノ材料適正管理のための複合計測システムの開発

    一村 信吾, 加藤 晴久, 堀池 重吉, 杉沢 寿志, 黒河 明, 熊谷 和博, 白川部 喜春, 重藤 知夫, 山口 哲司, 高橋 かより, 井上 信介, 稲垣 和三, 藤本 俊幸

    ぶんせき   2020 ( 10 ) 366 - 373  2020年10月

    CiNii

  • Development of standards for reliable surface analyses by ISO technical committee 201 on surface chemical analysis

    C. J. Powell, R. Shimizu, K. Yoshihara, S. Ichimura

    Surface Interface Anal   47   127-134  2015年  [査読有り]

     概要を見る

    The need for reliable surface analyses together with quality-management requirements for analytical laboratories led the Interna-tional Organization for Standardization (ISO) to form its Technical Committee (TC) 201 on Surface Chemical Analysis in 1991. This article describes the organization of TC 201, the strategies that have been found useful for identifying and assessing possible projects for new international standards, and the 57 international standards and other documents prepared to date by TC 201. Standards have now been developed for Auger-electron spectroscopy, glow-discharge spectroscopy, various types of scanning probe microscopy, secondary-ion mass spectrometry, sputter-depth profiling, total-reflection X-ray fluorescence spectroscopy, X-ray photoelectron spectroscopy, and X-ray reflectometry. In addition, standards have been developed with definitions of terms used in surface chemical analysis; the handling, preparation of specimens for surface analysis; information and data-transfer formats; and methods for determining the lateral resolution of beam-based methods of surface analysis.

    DOI

  • これからの公的研究機関の在り方 : 産総研を事例として

    一村 信吾

    應用物理   82 ( 8 ) 672 - 673  2013年08月  [査読有り]  [招待有り]

    DOI CiNii

  • 編集後記

    一村 信吾

    Synthesiology English edition   6 ( 2 ) 136 - 136  2013年

    DOI CiNii

  • ナノ計測の標準化:最近の動向とロードマップ

    一村 信吾

    真空技術   56 ( 7 ) 249 - 251  2013年  [査読有り]

    DOI CiNii J-GLOBAL

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書籍等出版物 【 表示 / 非表示

  • 材料研究のための分光法

    一村, 信吾, 橋本, 哲, 飯島, 善時, 講談社サイエンティフィク( 担当: 共編者(共編著者),  担当範囲: まえがき、第1章、2.4節、4.1.1項)

    講談社  2020年11月 ISBN: 9784065207871

  • ナノ粒子計測

    一村, 信吾, 日本分析化学会( 担当: 共著,  担当範囲: まえがき、第1章、2.4節、4.1.1項)

    共立出版  2018年11月 ISBN: 9784320044562

  • Nanotechnology Standards

    Shingo Ichimura, Hidehiko Nonaka( 担当: 共著,  担当範囲: Chapter 6: Current Standardization activities of Measurement and Characterization for Industrial Applications)

    Springer  2011年

  • オージェ電子分光法(表面分析技術選書)

    一村信吾他( 担当: 共著,  担当範囲: 第3章:定性と定量)

    丸善株式会社  2001年

  • 超精密計測がひらく世界

    一村信吾( 担当: 共著,  担当範囲: 第9章:真空中の原子・分子を一つ一つ見て数える)

    講談社  1998年

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Misc 【 表示 / 非表示

  • Significance of standardization in an era of global competition - case example in nanotechnology-

    一村 信吾

    表面科学学術講演会要旨集   33 ( 0 ) 85 - 85  2013年

     概要を見る

    Significance of standardization in an era of global competition is discussed with focus on the topic of nanotechnology as an typical example.

    DOI CiNii

  • 紫外光励起オゾンによるシリコン酸化膜および化学気相成長法(CVD)-SiO_2膜の二段階酸化膜の界面特性評価

    亀田 直人, 西口 哲也, 森川 良樹, 花倉 満, 牛山 智晴, 野中 秀彦, 一村 信吾

    真空   53 ( 3 ) 230 - 233  2010年03月  [査読有り]

     概要を見る

    &nbsp;&nbsp;SiO2 film was made on Si(100) by two-step film growth process at 100&deg;C to improve the interface properties. The first part of the process is the direct Si oxidation using UV-excited ozone (O(1D)), which is generated by the UV irradiation to high concentrated (>90%) ozone gas. In the second part, O(1D) and Hexamethyldisilazane chemical vopor deposition (CVD)(O(1D)-CVD) process is used. The SiO2 film thickness of the direct Si oxidation for 10 min. in the two-step SiO2 film was estimated to be about 3.2 nm from the etching rate in change a buffered HF solution. Interface trap density Dit of the two-step SiO2 film with direct Si oxidation of 10 min. is almost equal to that of Si direct oxidation film alone. This result indicates that two-step oxidation process can be applied for the practical fabrication.<br>

    DOI CiNii J-GLOBAL

  • オゾン分子の赤外吸収:ガス分圧の測定及び分子解離度の評価への応用

    中村 健, 亀田 直人, 西口 哲也, 野中 秀彦, 一村 信吾

    表面科学学術講演会要旨集   30 ( 0 ) 398 - 398  2010年

     概要を見る

    活性な酸化剤ガスであるオゾン(O3)は非直線等核3原子分子であることから、基準振動やその結合音等の赤外吸収(IR)ピークを示し、その吸光度はLambert-Beer則に従ってO3ガス濃度に比例することが期待される。本報告では、全圧測定をIR測定と併用することでO3の分圧及びO3から酸素への解離度の評価を試みると共に、IR吸光度への測定分解能の影響と補正の必要性について検討する。

    DOI CiNii

  • Cluster Ion Beam Source Using Vacuum Electrospray of Ionic Liquids for Secondary Ion Mass Spectrometry (SIMS)

    Yukio Fujiwara, Naoaki Saito, Hidehiko Nonaka, Taisuke Nakanaga, Shingo Ichimura

    7th International Symposium on Atomic Level Characterizations for New Materials and Devices '09     471 - 474  2009年12月

    記事・総説・解説・論説等(国際会議プロシーディングズ)  

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産業財産権 【 表示 / 非表示

  • 酸化膜改質方法及び酸化膜改質装置

    5487522号

    西口哲也, 斉藤 茂, 亀田直人, 野中秀彦, 一村信吾

    特許権

  • 酸化膜形成方法

    5403683

    亀田直人, 野中 秀彦, 一村 信吾

    特許権

  • オゾン分解装置及びプロセスシステム

    5391452

    亀田直人, 西口哲也, 野中秀彦, 一村信吾

    特許権

  • オゾン濃度測定方法及びその装置

    5239053

    西口哲也, 野中秀彦, 一村信吾

    特許権

  • オゾン分解装置

    5299857

    西口哲也, 野中秀彦, 一村信吾

    特許権

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講演・口頭発表等 【 表示 / 非表示

  • International Standardization of Nanotechnologies -Significance and Current Status-

    S. ichimura  [招待有り]

    ImPACT International Symposium on InSECT 2016  

    発表年月: 2016年04月

  • Significance of standardization in an era of global completion-case example of nanotechnology-

    S. Ichimura  [招待有り]

    2nd KVS-VSJ-SSSJ Joint Symposium  

    発表年月: 2013年11月

  • Standardization for Nano-technologies in an Era of Global Competion

    S. ichimura  [招待有り]

    The 3rd Intern. Symp. on Advanced Composite Materials  

    発表年月: 2012年11月

  • Recent standardization activities relating to measurement and characterization of nanotechnologies

    S.Ichimura  [招待有り]

    The 3rd Intern. Symp. on SPM Standardization (SPM2012)  

    発表年月: 2012年03月

  • Reseaerch activities of nanotechnology, materials and manufacturing technologies developed in AIST

    S. Ichimura  [招待有り]

    Korea-China-Japan Manufacturing Industry Strategy Forum 2011  

    発表年月: 2011年11月

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